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1600℃真空氣氛管式爐CVD系統(tǒng)（CVD-TF）
【產(chǎn)品特點】產(chǎn)品特點 提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境，應用在半導體、納米技術、等纖維等領域 此款CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導...
氣體流量控制系統(tǒng)（ZLXT、ZKXT、FZXT）
【產(chǎn)品特點】產(chǎn)品特點 設備為用戶提供具有可控氣氛的實驗環(huán)境 配合真空氣氛管式爐一起使用，供企業(yè)實驗室、大專院校、科研院所等單位選用。 產(chǎn)品用途 該系列產(chǎn)品配合真...
1400℃真空氣氛管式爐CVD系統(tǒng)（CVD-TF）
【產(chǎn)品特點】產(chǎn)品特點 提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境 此款CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶...
1200℃開啟式真空氣氛管式爐CVD系統(tǒng)（CVD-TF）
【產(chǎn)品特點】產(chǎn)品特點 提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境，應用在半導體、納米技術、 碳纖維等領域 使用溫度范圍 300～1200℃ 溫度控制精度 1℃ 管徑...
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